隨著半導體制造工藝的發展，對生產環境要求越來越高，潔凈度達到千級百級。在以往人們只注意顆粒物的過濾處理，忽視了分子級的氣態污染物（AMC）的處理。AMC中的酸性氣體、堿性氣體、有機物、難熔性有機物和摻雜性有機物之間產生不必要的化學反應，影響晶圓表面和工藝設備的光學器件，從而在芯片生產過程中產生不良品，降低機臺設備的生產效率。然而高效HEPA或超高效ULPA粒子過濾器根本無法過濾掉有害氣體。
半導體制成需要使用各種化學工藝氣體，這些氣體也會隨著工藝的過程，由真空泵從反應腔體抽出，形成各種有毒有害的工藝尾氣；大量的酸、堿等化學品以及有機溶劑和揮發性液體等在半導體制成的不同工藝中使用，也產生有毒有害廢氣，半導體生產廠家需要對工藝廢氣進行有效的處理才能排入大氣中，確保安全的工作環境，保護周邊環境的安全。
來源于工藝流程中使用各種酸液對芯片的腐蝕、清洗過程以及擴散等工序，主要污染物為氟化物、氯化氫、氮氧化 物、硫酸霧等
來源于使用氨水、氨氣的刻蝕工序，主要污染物為NH3；有機廢氣：來源于清洗、勻膠、去膠、刻蝕、顯影工序使用有機溶劑清洗過程，主要成份為異丙醇、光刻膠等有機物
來源于擴散、離子注入和CVD 等工序使用的特殊氣體，如硅烷、磷烷、砷烷、乙硼烷(B2H6)等，除部分在工藝中反應消耗外，其余均以尾氣的形式排放
蝶萊半導體廠房廢氣處理裝置是非常高效的廢氣處理裝置，用于高效處理半導體制成產生的各種有毒有害廢氣，也可以與其他過濾系統配合使用作為精過濾段，過濾后的氣體濃度可以達到嚴格空氣質量標準，廣泛應用于微電子行業設施及工廠，滿足最嚴格的排放和法規要求。
在MAU (新風空調箱) 內加裝化學過濾器
在FFU(風機過濾機組)上方加裝化學過濾器
在室內放置化學空氣凈化機
在MAU (新風空調箱) 內加裝化學過濾器，過慮器內加載干式化學過濾材料, 高效吸收凈化有害氣體。
在 FFU (風機過濾機組) 上方加裝化學過濾器，過慮器內加載干式化學過濾材料，高效吸收凈化有害氣體。
在潔凈室中使用蝶萊空氣凈化機，內部使用了化學過濾器和HEPA過濾器，高效吸收凈化有害氣體，可以有效保證制程環境潔凈度。
比普通活性炭更強的吸附能力，更長的使用壽命。
化學吸附并反應，不可逆轉，產生無毒無害物質
比一般的活性炭能夠去除更廣譜的氣態污染物
| 對比 | 普通過濾技術 | 化學過濾技術 |
|---|---|---|
| 濾料 | 活性炭 | PureAir過濾材料 |
| 工作原理 | 物理吸附 | 化學吸附和反應 |
| 是否逆轉 | 可逆轉，產生臭味 | 不可逆轉，無異味，轉化為無害固件 |
| 可除污染物 | VOCs（乙苯，二甲苯）、臭氧，對許多污染物無效 | 甲醛、二氧化硫、硫化氫等異味氣態污染物 |
| 物理特性 | 人造產品、無毒、可燃物質、在潮濕環境中易滋生微生物 | 定制產品、無毒無害、阻燃（UL認證）、防止細菌和真菌滋生 |
| 使用成本 | 單價便宜，但過濾效率低，更換周期短，經常更換，多事費力 | 單價較高，但過濾效率高，更換周期長，如硫化氫處理量為普通活性炭23倍 |
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